目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm。

預(yù)處理必須能夠去除原水中的絕大多數(shù)雜質(zhì)以滿足反滲透進(jìn)水要求，確保產(chǎn)水水質(zhì)達(dá)標(biāo)、產(chǎn)水量穩(wěn)定、系統(tǒng)回收率長期維持不變、延長反滲透膜使用壽命等。

壓力表：主要設(shè)在泵前、泵后、濃水、產(chǎn)水側(cè)，顯示反滲透裝置的運行壓力，根據(jù)壓力數(shù)值判斷膜及濾芯是否堵塞。

水在加熱過程中，由于蒸發(fā)濃縮，水中的金屬陽離子同陰離子結(jié)合在一起，形成水垢附著在受熱面上，水中這些金屬離子的總濃度稱為水的硬度。

超純水廣泛應(yīng)用于電子芯片、醫(yī)藥生物、精細(xì)化工等其他行業(yè)，理論電阻率最高為18.25 MΩ·cm。 在EDI裝置后，通常配備拋光混床作為最終的精處理裝置，設(shè)計流速一般為40-60m/h。

在集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。

化工行業(yè)中的純水主要應(yīng)用于電池溶劑用水、化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純等產(chǎn)線，純水電導(dǎo)率0.1uS/cm-15uS/cm即可滿足要求。

在純水設(shè)備中通過前置預(yù)處理裝置，對原水進(jìn)行初步的過濾，達(dá)到反滲透主機的進(jìn)水要求。

超純水設(shè)備采用高精密器件，無易損件，只需按時對設(shè)備進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)，就可以增加設(shè)備使用時間。